Технологія одержання плівок ZnO на поверхні мезопоруватого кремнію

Abstract

UK: У даній роботі плівки ZnO отримані на мезопоруватих кремнієвих підкладках методом високочастотного магнетронного розпилення цинкової мішені в реакційній кисень-аргоновому газовому середовищі. Вивчено вплив поруватого шару на структурні властивості тонких плівок ZnO. Результати показали, що порувата кремнієва підкладка зменшує залишкові напруги і може бути використана для отримання якісних плівок ZnO. EN: In this work, ZnO films are obtained on mesoporous silicon substrates by high-frequency magnetron sputtering of zinc target in reactive oxygen-argon gas medium. The influence of the porous layer on the structural properties ZnO thin films has been studied. The results showed that the porous silicon substrate reduces residual stresses and can be used to obtain high-quality ZnO films.